Method of making light guides

Abstract

Abstract Translated from French Procédé de fabrication de guides d'ondes lumineuses comportant une couche-support plane en un matériau d'indice de réfraction relativement faible, une couche plane de propagation des ondes lumineuses en un matériau d'indice de réfraction plus élevé que celui de la couche-support, enserrée entre deux bandes d'un matériau d'indice de réfraction inférieur au sien propre, et une couche plane de confinement des ondes lumineuses en un matériau d'indice de réfraction plus faible que celui de la couche de propagation. On effectue au moins l'une des opérations de dépôt de la couche plane de propagation des ondes lumineuses ou de la couche plane de confinement par circulation dans un tube en silice pure de vapeurs d'un composé gazeux du silicium transformable en silice et d'un composé gazeux d'un élément dopant transformable en oxyde de ce dernier, et chauffage des vapeurs à une température suffisante pour obtenir un dépôt d'une couche de silice dopée d'indice de réfraction différent de celui de la silice pure. On peut utiliser concurremment la diffusion ou l'implantation de dopants, ou leur élimination sélective. Method for manufacturing light waveguides comprising a planar support layer made of a material with a relatively low refractive index, a planar layer propagating light waves made of a material having a higher refractive index than that of the layer- support, sandwiched between two strips of a material with a refractive index lower than its own, and a plane layer for confining light waves in a material with a lower refractive index than that of the propagation layer. At least one of the deposition operations is carried out on the planar layer of propagation of light waves or on the planar confinement layer by circulation in a tube made of pure silica of vapors of a gaseous compound of silicon transformable into silica and a gaseous compound of a doping element transformable into oxide of the latter, and heating of the vapors to a sufficient temperature to obtain a deposit of a doped silica layer with a refractive index different from that of pure silica. The diffusion or implantation of dopants, or their selective elimination, can be used concurrently.

Inventors

• 👤 Christian Le Sergent
• 👤 Alain Drouart

Bibliographic Details