High purity Ti complex, method for producing the same, and liquid composition for forming BST film

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【課題】 熱分解温度が高く、高純度なＴｉ錯体を提供 する。 【解決手段】 ｃｉｓ−Ｔｉ（Ｏ−ｔ−Ｂｕ） 2 （ＤＰ Ｍ） 2 ：Ｔｉ（Ｏ−ｔ−Ｂｕ） 4 の有機溶媒溶液にＨＤ ＰＭを加えて加熱還流してｃｉｓ−Ｔｉ（Ｏ−ｔ−Ｂ ｕ） 2 （ＤＰＭ） 2 結晶を得る。この高純度Ｔｉ錯体と Ｂａ（ＤＰＭ） 2 及び／又はＳｒ（ＤＰＭ） 2 とを有機 溶媒に溶解したＢＳＴ膜形成用液体組成物。 【化４】 【効果】 ＣＶＤ法により、段差被覆性が良好で、高純 度で電気特性に優れたＴｉＯ膜を成膜できる。溶液供給 法により、所望の膜組成のＢＳＴ膜を成膜できる。 (57) Abstract: A high-purity Ti complex having a high thermal decomposition temperature is provided. SOLUTION: cis-Ti (Ot-Bu) 2 (DP M) 2 : HD in an organic solvent solution of Ti (Ot-Bu) 4 Add PM and heat to reflux to cis-Ti (Ot-B u) 2 (DPM) 2 crystals are obtained. A liquid composition for forming a BST film, wherein this high-purity Ti complex and Ba (DPM) 2 and / or Sr (DPM) 2 are dissolved in an organic solvent. Embedded image [Effect] By the CVD method, it is possible to form a TiO film having good step coverage and high purity and excellent electric characteristics. A BST film having a desired film composition can be formed by the solution supply method.

Inventors

• 👤 Hiroto Uchida
• 👤 寛人 内田
• 👤 Atsushi Sai
• 👤 篤 齋
• 👤 Kazuo Wakabayashi
• 👤 和夫 若林
• 👤 Katsumi Ogi
• 👤 勝実 小木

Bibliographic Details