Mask data verification device, mask data creation device, mask data verification method, mask data creation method, and auxiliary pattern mask creation method

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【目的】 設計データから所望の領域を選択してリソグ ラフィ行程で所望の寸法値が得られない箇所を検証抽出 し、さらにその箇所を修正することを目的とする。 【構成】 設計データから所望の領域を選択してデータ を取り込む機能ａと、選択した領域の光強度を計算する 機能ｂと、レジストの現像溶解速度を計算する機能ｃ と、前記光強度とレジスト溶解速度によりレジスト形状 を計算する機能ｄと、前記光強度とレジスト形状により 所望の寸法値が得られない箇所を検証抽出する。 (57) [Summary] [Purpose] The purpose is to select a desired region from design data, verify and extract a portion where a desired dimension value is not obtained in the lithography process, and further correct the portion. [Structure] A function a for selecting a desired region from design data to take in the data, a function b for calculating the light intensity of the selected region, and a function c for calculating the resist development dissolution rate. Then, a function d for calculating a resist shape based on the light intensity and the resist dissolution rate, and a portion where a desired dimensional value cannot be obtained due to the light intensity and the resist shape are verified and extracted.

Inventors

• 👤 Koji Matsuoka
• 👤 晃次 松岡
• 👤 Akio Mitsusaka
• 👤 章夫 三坂
• 👤 Masaru Sasako
• 👤 勝 笹子

Bibliographic Details