Phase shift mask and phase shift mask blank

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【目的】 比較的単純な工程で微小欠陥の発生を押さえ つつ製造でき、かつ、高解像度のパターン転写が可能な 位相シフトマスク及びその素材たる位相シフトマスクブ ランクを提供する。 【構成】 透明基板上１に形成するマスクパターンを、 実質的に露光に寄与する強度の光を透過させる光透過部 ４と実質的に露光に寄与しない強度の光を透過させる光 半透過部２とで構成し、かつ、この光半透過部２を通過 する光の位相をシフトさせて該光半透過部２を通過した 光の位相と光透過部４を通過した光の位相とを異ならし めることにより、光透過部４と光半透過部２との境界部 近傍を通過した光が互いに打ち消しあうようにして境界 部のコントラストを良好に保持できるようにした位相シ フトマスクであって、光半透過部２を酸素を含むクロム の膜で構成し、該酸素を含むクロムの膜の酸素含有量を ３０〜６０原子％とした。 (57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a phase shift mask which can be manufactured with a relatively simple process while suppressing the generation of minute defects and which enables pattern transfer with high resolution, and a phase shift mask blank which is a material thereof. [Structure] A mask pattern formed on the transparent substrate 1 The light transmissive portion 4 that transmits the light having an intensity that substantially contributes to the exposure and the light semi-transmissive portion 2 that transmits the light that does not substantially contribute to the exposure are formed. By shifting the phase of the light passing therethrough to make the phase of the light passing through the light semi-transmissive portion 2 different from the phase of the light passing through the light transmissive portion 4, the light transmissive portion 4 and the light semi-transmissive portion 2 are separated. Is a phase shift mask in which light passing through the vicinity of the boundary portion cancels each other out, and the contrast of the boundary portion can be favorably maintained, and the light semi-transmissive portion 2 is made of a chromium film containing oxygen. The oxygen content of the chromium film containing oxygen was set to 30 to 60 atom%.

Inventors

• 👤 Masaru Mitsui
• 👤 勝 三井
• 👤 Hideo Kobayashi
• 👤 英雄 小林

Bibliographic Details