Magnetic field generator for magnetron plasma etching

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【目的】 マグネトロンエッチング装置に組み込むに際 して、エッチング室を大型化したり、試料台の移動距離 を長くしたりせずに、所望の水平磁場均一性を得ること ができる、ダイポールリング磁石より成るマグネトロン プラズマエッチング用磁場発生装置を提供すること。 【構成】 複数の異方性セグメント柱状磁石をリング状 に配置したダイポールリング磁石より成るマグネトロン プラズマエッチング用磁場発生装置において、上記複数 の異方性セグメント柱状磁石の一部分である、複数個の 異方性セグメント柱状磁石の側面の全部あるいは一部分 に、磁化の方向が上記異方性セグメント柱状磁石の軸方 向である、異方性セグメント磁石を設ける。 (57) [Summary] [Objective] When incorporating into a magnetron etching device, a desired horizontal magnetic field homogeneity can be obtained without enlarging the etching chamber or increasing the moving distance of the sample stage. To provide a magnetic field generator for magnetron plasma etching, which comprises a magnet. A magnetic field generator for magnetron plasma etching comprising a dipole ring magnet in which a plurality of anisotropic segment columnar magnets are arranged in a ring shape, wherein a plurality of anisotropic segments which are a part of the plurality of anisotropic segment columnar magnets are used. An anisotropic segment magnet whose magnetization direction is the axial direction of the anisotropic segment columnar magnet is provided on all or part of the side surface of the anisotropic segment columnar magnet.

Inventors

• 👤 Koji Miyata
• 👤 浩二 宮田

Bibliographic Details