Composition for polishing metal material

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【構成】水とアルミナ研磨材及び研磨促進剤からなる金 属材料の研磨用組成物に於いて、該研磨促進剤が硝酸ク ロム(III) 、硝酸ランタン、硝酸アンモニウムセリウム (III) 及び硝酸ネオジウムのうちから選ばれた少なくと も１種であることを特徴とする金属材料の研磨用組成 物。 【効果】磁気ディスク基板、半導体基板等の金属材料に 対し、加工能率が高く、面粗度が小さく、表面欠陥の極 めて少ない精密研磨加工が可能である。 (57) [Summary] [Structure] A polishing composition for a metal material comprising water, an alumina abrasive and a polishing accelerator, wherein the polishing accelerator is chromium (III) nitrate, lanthanum nitrate, cerium ammonium nitrate. (III) and at least one selected from neodymium nitrate. A polishing composition for a metal material, comprising: [Effect] With respect to metal materials such as magnetic disk substrates and semiconductor substrates, it is possible to perform precision polishing with high processing efficiency, low surface roughness, and extremely few surface defects.

Inventors

• 👤 Yoshiaki Takeuchi
• 👤 美明 竹内
• 👤 Koji Yamamoto
• 👤 浩二 山本
• 👤 Hiroshi Umezaki
• 👤 博 梅崎

Bibliographic Details