Vacuum / gas phase reactor for dehydroxylation and alkylation of porous silica

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 （修正有） 【課題】 多孔質ケイ酸塩膜の脱ヒドロキシル化および アルキル化のための真空／気相反応器の提供。 【解決手段】 基板を高真空にさらし、加熱し、迅速か つ効率的にシランにより処理し、気相の脱ヒドロキシル 化およびアルキル化反応を行なう真空／気相反応器で実 施する。また、シリル化を促進し、処理効率を向上させ るために、化学種を高エネルギー状態または活性の高い 状態にする「活性化体」および、シリル化反応で発生す る触媒破壊の可能性や反応性の副産物を除去する「スク ラバ」の両方として作用する準触媒表面を含むよう設計 される。実施形態のひとつは、メソ多孔質膜ウエハを処 理する反応器のチャンバ内に、金属製の加熱固体表面を 有するホットフィラメント反応器（図１）である。別の 実施形態は、赤外線反応器であり、フランジ反応器であ る。メソ多孔質膜をシリル化処理することにより、低誘 電率および高弾性率を示す処理膜を形成する。 PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vacuum / gas phase reactor for dehydroxylation and alkylation of a porous silicate membrane. SOLUTION: The substrate is exposed to a high vacuum, heated, rapidly and efficiently treated with silane, and carried out in a vacuum / gas phase reactor for gas phase dehydroxylation and alkylation reactions. In addition, to promote silylation and improve processing efficiency, an "activator" that brings chemical species into a high energy state or a highly active state, and the possibility and reactivity of catalyst destruction generated in the silylation reaction It is designed to include a quasi-catalytic surface that acts as both a "scrubber" to remove the by-products of the catalyst. One embodiment is a hot filament reactor having a heated solid metal surface (FIG. 1) in a chamber of a reactor for processing mesoporous membrane wafers. Another embodiment is an infrared reactor, which is a flanged reactor. By subjecting the mesoporous film to a silylation treatment, a treated film having a low dielectric constant and a high elastic modulus is formed.

Inventors

• 👤 Jerome Birnbaum
• 👤 ビルンバウム ジェロメ
• 👤 Gary Maupin
• 👤 マウピン ガリー
• 👤 Dunham Glen
• 👤 ダンハム グレン
• 👤 Glen Fryxell
• 👤 フリクセル グレン
• 👤 Suresh Baskaran
• 👤 バスカラン スレシュ

Bibliographic Details