Substrate processing equipment

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【課題】 Ｏリングの長寿命化と汚染ガスの発生防止を 図ることができる基板処理装置を提供する。 【解決手段】 ランプ２からの光を石英窓３を介して基 板９に照射することにより、基板９の加熱処理を行う基 板処理装置１において、石英窓３をＯリング４１および 樹脂シート４２によって挟むように固定する。また、樹 脂シート４２を介して石英窓３を固定する蓋部１２内に は、冷却用の水冷ジャケット５２を設ける。これによ り、石英窓３の熱は樹脂シート４２を介して効率よく水 冷ジャケット５２へ吸収され、石英窓３の温度を低下さ せることができる。その結果、Ｏリング４１と石英窓３ の接触部位の温度が高温となることはないのでＯリング ４１の長寿命化と汚染ガスの発生防止を図ることができ る。 (57) An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of extending the life of an O-ring and preventing the generation of pollutant gas. SOLUTION: In a substrate processing apparatus 1 that heats a substrate 9 by irradiating the substrate 9 with light from a lamp 2 through a quartz window 3, the quartz window 3 is sandwiched by an O-ring 41 and a resin sheet 42. So that it is fixed. Further, a water cooling jacket 52 for cooling is provided in the lid portion 12 which fixes the quartz window 3 via the resin sheet 42. Thereby, the heat of the quartz window 3 is efficiently absorbed by the water cooling jacket 52 via the resin sheet 42, and the temperature of the quartz window 3 can be lowered. As a result, the O-ring 41 and the quartz window 3 Since the temperature of the contact portion of the O-ring 41 does not become high, it is possible to extend the life of the O-ring 41 and prevent the generation of pollutant gas.

Inventors

• 👤 Takatoshi Chiba
• 👤 ▲隆▼俊 千葉
• 👤 Hideo Nishihara
• 👤 英夫 西原
• 👤 Mitsuhiro Masuda
• 👤 充弘 増田
• 👤 Toshihiro Nakajima
• 👤 敏博 中島

Bibliographic Details