Lithographic projection apparatus calibration method and apparatus to which such method can be applied

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 （修正有） 【課題】 投影装置の２つの異なるステーションで物体 テーブルの位置を測定するのに使用する２つの異なる位 置測定システムを、互いに対して較正する。 【解決手段】 投影ビームを供給するシステム、所望の 形状に投影ビームをパターン形成する手段ＭＡを支持す る第１の物体テーブルＭＴ、基板Ｗを保持する第２の物 体テーブルＷＴａ，ＷＴｂ、基板Ｗのターゲット部分上 に、ビームを投影する投影システムを含む投影装置を較 正する方法で、前記第１および第２の物体テーブルＷＴ ａ，ＷＴｂまたはＭＴの１つの組を成す２以上の基準位 置を第１の検出システムで同定し、基準位置を第１の位 置測定システムで測定する段階と、前記１つの物体テー ブルの前記組を成す基準位置を第２の検出システムで同 定し、基準位置を第２の位置測定システムで測定する段 階と、前記基準位置の測定値を使用して前記第１および 第２の位置測定システムを関係づける段階とを含む較正 方法。 PROBLEM TO BE SOLVED: To calibrate two different position measurement systems used for measuring the position of an object table at two different stations of a projection apparatus with respect to each other. SOLUTION: A system for supplying a projection beam, a first object table MT supporting a means MA for patterning the projection beam into a desired shape, a second object table WTa, WTb holding a substrate W, and a substrate W are provided. In a method for calibrating a projection device comprising a projection system for projecting a beam onto a target portion, said first and second object tables WT a, two or more reference positions forming a set of WTb or MT are identified by a first detection system, and the reference positions are measured by a first position measurement system; Identifying a reference position to be formed by a second detection system and measuring the reference position by a second position measurement system, and using the measured value of the reference position to relate the first and second position measurement systems. Calibration step.

Inventors

• 👤 Yim Bun Patrick Kwan
• 👤 ブン パトリック クワン イイム
• 👤 Leon Martin Levasier
• 👤 マルチン レファシェル レオン

Bibliographic Details