Projection exposure equipment

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【課題】 感光剤を塗布した基板に高エネルギの露光光 を照射した際にも、投影光学系等に微粒子が付着して汚 染されることを防止する。 【解決手段】 感光剤Ｋを塗布した基板Ｗに、露光光Ｂ によりマスクのパターンを投影露光する投影露光装置に おいて、露光光Ｂを透過させるとともに、基板Ｗの感光 剤塗布面１８を少なくとも収納するチャンバ１５を備え る。 [PROBLEMS] To prevent contamination of a projection optical system or the like due to fine particles even when a substrate coated with a photosensitive agent is irradiated with high-energy exposure light. SOLUTION: Exposure light B is applied to a substrate W coated with a photosensitive agent K. In the projection exposure apparatus for projecting and exposing a pattern of a mask, a chamber 15 for transmitting exposure light B and accommodating at least a photosensitive agent application surface 18 of the substrate W is provided.

Inventors

• 👤 Hitoshi Takeuchi
• 👤 仁 竹内

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