PROCESS FOR VAPORIZING MATERIALS IN A VACUUM EVAPORATION DEPOSIT INSTALLATION

Abstract

Abstract Translated from French L'invention concerne un procédé de vaporisation de matériaux dans une installation de dépôt par évaporation sous vide. Selon ce procédé, mis en oeuvre dans une chambre 17 de dépôt par vaporisation à l'aide d'une décharge l'électrons 7 entre une cathode 3 et une anode, le matériau à vaporisation 19 sert d'anode et la décharge 7 est dirigée sur l'anode par un champ magnétique produit par des bobines 5 et focalisée sur la surface de l'anode. Application notamment au dépôt de couches métalliques pures sur des substrats. The invention relates to a process for vaporizing materials in a vacuum evaporative deposition plant. According to this method, implemented in a chamber 17 for deposition by vaporization using an electron discharge 7 between a cathode 3 and an anode, the vaporization material 19 serves as an anode and the discharge 7 is directed on the anode by a magnetic field produced by coils 5 and focused on the surface of the anode. Application in particular to the deposition of pure metal layers on substrates.

Inventors

• 👤 Eberhard Moll
• 👤 Helmut Daxinger

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