Device for producing a plasma and for treating substrates in said plasma

Abstract

Abstract Translated from German Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Herstellen eines Plasmas und zur Behandlung von Substraten darin. Das mit Hilfe von Mikrowellen erzeugte Plasma dient dazu, ein Substrat zu beschichten, das sich in einer Kammer (5) aus metallischen Wänden (6,7,12,13) befindet. An den metallischen Wänden (6,7,12.13) werden die Mikrowellen mehrfach reflektiert, so daß die Kammer (5) zahlreiche Mikrowellen-Moden aufweist. Mit Hilfe von Dauermagneten, die entweder in der Kammer (5) oder außerhalb der Kammer (5) in die Nähe des zu beschichtenden Substrats gebracht werden, ist es möglich, innerhalb dieser Kammer (5) eine Elektron-Zyklotron-Resonanz zu erzeugen, die ein örtlich gezieltes Zünden des Plasmas gestattet. The invention relates to a device for producing a plasma and for treating substrates therein. The plasma generated with the aid of microwaves is used to coat a substrate which is located in a chamber (5) made of metallic walls (6, 7, 12, 13). The microwaves are reflected several times on the metallic walls (6, 7, 12, 13), so that the chamber (5) has numerous microwave modes. With the help of permanent magnets, which are placed either in the chamber (5) or outside the chamber (5) in the vicinity of the substrate to be coated, it is possible to generate an electron cyclotron resonance within this chamber (5) a locally targeted ignition of the plasma is permitted.

Inventors

• 👤 Jörg Dr. Kieser
• 👤 Michael Dr. Geisler
• 👤 Rolf Prof. Dr. Wilhelm
• 👤 Eberhard Dr. Räuchle

Bibliographic Details