Method of producing a grid pattern incorporating a phase jump on the surface of a substrate

Abstract

Abstract Translated from German Es wird ein Verfahren zur Erzeugung einer Gitterstruktur mit Phasensprung auf einer Oberfläche eines Substrats durch Belichtung einer fotoempfindlichen Oberfläche in einem optischen Interferenzfeld beschrieben, wobei die fotoempfindliche Oberfläche doppelt belichtet und zwischen den beiden Belichtungen die Ortsfrequenz des Interferenzfeldes um einen kleinen Betrag verändert wird. Die fotoempfindliche Oberfläche kann eine auf das Substrat aufgebrachte Fotolackschicht sein. Nach dem Entwickeln der belichteten Schicht wird die Gitterstruktur durch Ätzen erzeugt. Die Struktur kann auch direkt durch laseraktiviertes Ätzen erzeugt werden, wobei die fotoempfindliche Oberfläche aus der mit einem Ätzmittel in Kontakt stehenden Substratoberfläche besteht, an dier die Ätzreaktion durch Belichtung aktivierbar ist. A method for producing a lattice structure with a phase jump on a surface of a substrate by exposure of a photosensitive surface in an optical interference field is described, the photosensitive surface being exposed twice and the spatial frequency of the interference field being changed by a small amount between the two exposures. The photosensitive surface can be a photoresist layer applied to the substrate. After the exposed layer has been developed, the lattice structure is produced by etching. The structure can also be produced directly by laser-activated etching, the photosensitive surface consisting of the substrate surface which is in contact with an etching agent and on which the etching reaction can be activated by exposure.

Inventors

• 👤 Gerhard Dipl.-Phys. Heise
• 👤 Ulrich Dipl.-Phys. Wolff
• 👤 Richard Dr. Matz

Bibliographic Details