Patent EP0167777A2 successfully refreshed from Google Patents.
← Back to Patent Explorer
EP0167777A2 Expired / Lapsed EP ⏱️ 0.0 years remaining

Copolymers with perfluoroalkyl groups, registration layers containing them and their use in dry lithography

Assignee: Hoechst AG
•
Filing: 1985-05-29
•
Granted: —
•
Expires: 2005-05-29
📄 Original PDF 🌐 Google Patents 🔄 Sync Now

Abstract

Abstract Translated from German Perfluoralkylgruppen aufweisende Copolymere, sie enthaltende Reproduktionsschichten und deren Verwendung für den wasserlosen Offsetdruck. Copolymers containing perfluoroalkyl groups, reproduction layers containing them and their use for waterless offset printing. Die neuen Perfluoralkylgruppen aufweisenden Copolymeren werden aus mindestens zwei unterschiedliche Monomeren hergestellt, wobei das Monomere (a) Acryloyl- oder Meth-acryloylgruppen und phenolische OH-Gruppen und das Monomere (b) Acryloyloxy-, Methacryloyloxy- oder Vinylgruppen und eine Perfluoralkylgruppe aufweisen. Die Monomeren-Komponente (a) kann beispielsweise aus einer Hydrozybenzoesäure durch Veresterung mit einem Hydroxyalkylacrylat hergestellt werden. The new copolymers containing perfluoroalkyl groups are prepared from at least two different monomers, the monomer (a) having acryloyl or methacryloyl groups and phenolic OH groups and the monomer (b) having acryloyloxy, methacryloyloxy or vinyl groups and a perfluoroalkyl group. The monomer component (a) can be prepared, for example, from a hydrozybenzoic acid by esterification with a hydroxyalkyl acrylate. Die neuen Copolymeren werden insbesondere als Bindemittel in strahlungsempfindlichen Reproduktionsschichten eingesetzt, die daneben noch mindestens eine strahlungsempfindliche Verbindung enthalten. Solche Reproducktionsschichten finden als strahlungsempfindliche Beschichtung von Durckplattenträgermaterialien für den wasseriosen Offsetdruck Verwendung. Ein Beispiel für ein erfindungsgemäßes Copolymeres ist ein solches aus den folgenden Monomeren der Gruppen (a) und (b) im Verhältnis von 40 % zu 60 %: The new copolymers are used in particular as binders in radiation-sensitive reproduction layers which also contain at least one radiation-sensitive compound. Reproduction layers of this type are used as a radiation-sensitive coating of printed circuit board carrier materials for waterless offset printing. An example of a copolymer according to the invention is one of the following monomers of groups (a) and (b) in a ratio of 40% to 60%:

Inventors

  • 👤 Werner H. Dr. Dipl.-Chem. Müller
  • 👤 Arnold Dr. Dipl.-Chem. Schneller

Bibliographic Details

Application Number —
Jurisdiction EP
Data Source google_patents
Last Synchronized 2026-11-09 19:12
CPC Classifications
G; G03; G03F; G03F7/00; G03F7/004; G03F7/0046; C; C08; C08F; C08F212/00; C08F212/02; C08F212/04; C08F212/14; C08F212/16; C08F212/18; C08F212/20; C08F212/22; C08F220/00; C08F220/02; C08F220/10; C08F220/22; C08F220/24; C08F220/26; C08F220/30; C08F220/303; G03F7/022; G03F7/023; G03F7/0233

Claims Analysis

Total Claims: 0
No claims parsed yet. Click Sync Now above to re-index claims from Google Patents.

References Cited (Backward Citations)

No citation records indexed.

USPTO Annuity & Maintenance Windows

Maintenance schedule is calculated for granted US utility patents.

Assigned Categories & Tags

No categories assigned to this patent yet.

Assign Category Tag