Method and device for the production of a uniform plasma having a large volume, a high density and a low electron temperature
Abstract
Abstract Translated from French Production de plasmas. Le procédé selon l'invention est caractérisé en ce qu'on: procède, par ondes hyperfréquences, à l'excitation d'un milieu gazeux dans une enceinte, maintient ce plasma dans l'enceinte au moins par confinement magnétique multipolaire, met en oeuvre des moyens propres à entretenir dans l'enceinte une pression absolue comprise entre 10<-><5> et 10<->¹ Torrs. Application à la microélectronique. Plasma production. The method according to the invention is characterized in that: proceeds, by microwave waves, to excite a gaseous medium in an enclosure, maintains this plasma in the enclosure at least by multipolar magnetic confinement, implements means suitable for maintaining in the enclosure an absolute pressure of between 10 <-> <5> and 10 <-> ¹ Torrs. Application to microelectronics.
Inventors
- 👤 Yves Arnal
- 👤 Jacques Pelletier
- 👤 Claude Pomot
Bibliographic Details
Claims Analysis
Total Claims: 0References Cited (Backward Citations)
USPTO Annuity & Maintenance Windows
Maintenance schedule is calculated for granted US utility patents.