Process and apparatus for particle implantation in solids

Abstract

Abstract Translated from French L'invention concerne un procédé et un dispositif d'implantation de particules dans un solide. The invention relates to a method and a device for implanting particles in a solid. Le procédé d'implantation de particules dans un solide dans lequel on crée un faisceau parallèle (11) de particules énergétiques A, on place sur le chemin de ce faisceau parallèle (11) de particules énergétiques A des particules B qui, par interaction avec les particules énergétiques A, sont projetées vers une cible (6) avec une énergie suffisante pour y pénétrer, est caractérisé en ce que les particules B sont à l'état gazeux, ce gaz (24) occupant une zone située en regard de la cible (6). The process of implanting particles in a solid in which a parallel beam (11) of energetic particles A is created, we place on the path of this parallel beam (11) of energetic particles A particles B which, by interaction with the energetic particles A, are projected towards a target (6) with sufficient energy to penetrate therein, is characterized in that the particles B are in the gaseous state, this gas (24) occupying an area situated opposite the target ( 6). Cette invention trouve notamment son application dans le dopage des semiconducteurs. This invention finds its application in particular in the doping of semiconductors.

Inventors

• 👤 Michel Bruel
• 👤 Alain Soubie
• 👤 Philippe Spinelli

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