Method and equipment for checking an optical system

Abstract

Abstract Translated from German Zur Prüfung optischer Abbildungssysteme, z. B. photolithographischer Kopiermaschinen, auf lokale Verzeichnung und Maßstabsfehler wird in einem ersten Schritt ein Interferogramm eines Originalmusters (z. B. lineares Gitter 1) von zwei symmetrisch auf das Originalmuster auftreffenden Lichtbündeln (3, 4) erzeugt und in einem zweiten Schritt unter identisch gleichen Bedingungen ein Interferogramm der Kopie des Originalmusters, die vom zu prüfenden Abbildungssystem erzeugt wurde. Zur Aufnahme der Interferogramme wird der Einfallswinkel (ß) so gewählt, daß in Richtung der Normalen zu den Mustern eine bestimmte gewünschte Beugungsordnung registriert werden kann. Die relativen Abweichungen der beiden (optisch oder elektronisch gespeicherten) Interferogramme geben ein Maß für die Verzeichnung an jedem einzelnen Punkt des Bildfelds. Zur gleichzeitigen Bestimmung der Verzeichnung in beiden Koordinatenrichtungen wird anstelle eines linearen Gitters ein Gitterfeld mit mehreren orthogonal zueinander orientierten Gittern verwendet. Die Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens besteht in einer Aufnahme, in der nacheinander die beiden miteinander zu vergleichenden Muster reproduzierbar eingelegt werden und symmetrisch beleuchtet werden können. For testing optical imaging systems, e.g. B. photolithographic copying machines, local distortion and scale errors in an initial step an interferogram of an original pattern (z. B. linear grating 1) of two symmetrically incident on the original pattern light beams (3, 4) is generated and in a second step under identical Conditions an interferogram of the copy of the original pattern, which was generated by the imaging system to be examined. To record the interferograms, the angle of incidence (β) is chosen so that a certain desired diffraction order can be registered in the direction of the normal to the patterns. The relative deviations of the two (optically or electronically stored) interferograms give a measure of the distortion at each individual point in the image field. To determine the distortion in both coordinate directions at the same time, a grid field with a plurality of grids oriented orthogonally to one another is used instead of a linear grid. The device for carrying out the method consists of a recording in which the two patterns to be compared are reproducibly inserted one after the other and can be illuminated symmetrically.

Inventors

• 👤 Gerd Dr. Häusler
• 👤 Walter Dr. Järisch
• 👤 Günter Makosch

Bibliographic Details