Optical mask

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【目的】透過光に位相差を与える位相シフタを有し、半 導体装置等の製造の際に使用される投影露光装置用の光 学マスクに関し、ホールパターンの解像力と焦点深度を 向上すること。 【構成】ホールパターン形成用窓４，10と、前記ホール パターン形成用窓４，10の周囲に形成され、前記ホール パターン形成用窓４，10を透過する光に対して１８０° 位相差のある八角形の第一の補助窓５，11とを含む。 (57) [Abstract] [Purpose] An optical mask for a projection exposure apparatus, which has a phase shifter that gives a phase difference to transmitted light, is used for manufacturing a semiconductor device or the like. To improve. [Structure] Hole pattern forming windows 4 and 10 and 180 ° with respect to light transmitted through the hole pattern forming windows 4 and 10 formed around the hole pattern forming windows 4 and 10. And octagonal first auxiliary windows 5, 11 with a phase difference.

Inventors

• 👤 Isamu Hairi
• 👤 勇 羽入
• 👤 Satoru Asai
• 👤 了 浅井

Bibliographic Details