Plasma processing device

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【目的】 プラズマ中に電磁波動を発生させることによ り高密度のプラズマが生成される磁化プラズマによるプ ラズマ処理装置を提供する。 【構成】 筒状に形成された真空容器２の中心軸方向に 磁気コイル６から磁場を印加すると共に，該真空容器２ 内にＲＦアンテナ４から高周波電力を印加して，該真空 容器２内に導入された処理ガスをプラズマ化し，該プラ ズマにより上記真空容器２内の中心軸方向に配置された 被処理物１０をプラズマ処理するプラズマ処理装置であ って，上記真空容器２の中心軸方向の一端に容器外方向 に向けて略半球状に形成された誘電体ドーム部３を設 け，該誘電体ドーム部３の先端外周部の至近位置に１ル ープに形成されたＲＦアンテナ４を配設してなる。 (57) [Abstract] [PROBLEMS] To provide a plasma processing apparatus using magnetized plasma in which high-density plasma is generated by generating electromagnetic waves in the plasma. [Structure] A magnetic field is applied from a magnetic coil 6 in the central axis direction of a vacuum container 2 formed in a cylindrical shape, and the vacuum container 2 A high-frequency power is applied from the RF antenna 4 to the inside of the vacuum vessel 2 to turn the processing gas into plasma, and the plasma is applied to the workpiece 10 arranged in the central axis direction of the vacuum vessel 2 by the plasma. A plasma processing apparatus for processing, wherein a dielectric dome portion 3 formed in a substantially hemispherical shape is provided at one end in the central axis direction of the vacuum container 2 toward the outside of the container, and the outer periphery of the tip end of the dielectric dome portion 3 is provided. An RF antenna 4 formed in one loop is arranged at a position close to the part.

Inventors

• 👤 Yasuhiro Horiike
• 👤 靖浩 堀池
• 👤 Satoru Narai
• 👤 哲 奈良井

Bibliographic Details