Substrate support for deposited film forming apparatus

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 （修正有） 【目的】基体温度の変化が無く、特性の安定した堆積膜 の製造を可能にする堆積膜製造における基体用支持体を 提供する。 【構成】減圧可能な成膜空間を持つ反応容器を有し、前 記成膜空間内の基体支持体１０１上に載置された基体１ ０３上に機能性堆積膜を形成する堆積膜製造装置の基体 支持体であって、該基体支持体の少なくとも一部を金属 酸化物粉末の溶射１０２により黒化処理する事を特徴と する堆積膜形成における基体支持体。 (57) [Summary] (Modified) [Object] To provide a support for a substrate in the production of a deposited film, which makes it possible to produce a deposited film with stable characteristics without changing the temperature of the substrate. [Structure] A substrate 1 having a reaction vessel having a film-forming space capable of depressurization and placed on a substrate support 101 in the film-forming space. 03 is a substrate support of a deposited film manufacturing apparatus for forming a functional deposited film on 03, characterized in that at least a part of the substrate support is blackened by thermal spraying 102 of a metal oxide powder. Substrate support in formation.

Inventors

• 👤 Toshihito Yoshino
• 👤 豪人 吉野
• 👤 Hitoshi Murayama
• 👤 仁 村山
• 👤 Koji Yamazaki
• 👤 晃司 山崎
• 👤 Toshiyuki Ebara
• 👤 俊幸 江原

Bibliographic Details