Mask for projection exposure system

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【目的】 既存の装置をそのまま用いて傾斜照明を容易 に実現するための投影露光用マスクを提供する。 【構成】 微細パタンの投影露光装置に用いるマスクで あって、照射光Ｉを投影レンズの開口数に応じて傾ける 機能を有する光学素子として例えば位相型グレーティン グ１４をマスク基板１１のパタン面の光源側に配置し、 これらのグレーティング１４とマスク基板１１とを一体 化してマスク１６を構成する。これにより、グレーティ ング１４とマスク基板１１の装着や着脱が同時できると ともに、既存の投影露光装置を改造することなく投影レ ンズの最高の解像度で結像できる。しかも、位相シフト マスクを用いずとも従来装置による位相シフトマスク法 と同等の解像度を任意のパタンに対して達成できる。 (57) [Abstract] [Purpose] To provide a projection exposure mask for easily realizing oblique illumination by using an existing apparatus as it is. A mask used in a projection exposure apparatus for fine patterns, for example, a phase type grating 14 serving as an optical element having a function of tilting the irradiation light I according to the numerical aperture of a projection lens is provided on a light source side of a pattern surface of a mask substrate 11. Placed in The grating 14 and the mask substrate 11 are integrated to form a mask 16. As a result, the grating 14 and the mask substrate 11 can be attached and detached at the same time, and an image can be formed with the highest resolution of the projection lens without modifying the existing projection exposure apparatus. Moreover, the resolution equivalent to that of the phase shift mask method by the conventional apparatus can be achieved for any pattern without using the phase shift mask.

Inventors

• 👤 Kazuhiko Komatsu
• 👤 一彦 小松
• 👤 Emi Tamechika
• 👤 恵美 為近
• 👤 Seitaro Matsuo
• 👤 誠太郎 松尾
• 👤 Yoshinobu Takeuchi
• 👤 良亘 竹内
• 👤 Katsuyuki Harada
• 👤 勝征 原田
• 👤 Yoshiaki Mimura
• 👤 義昭 三村

Bibliographic Details