Optical device and manufacturing method thereof

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【目的】 光学材料の表面に少なくとも１つの凸弧面、 凹弧面を一体に形成する。 【構成】 光学材料４０から成る光学デバイスの表面上 に形成されたフォトレジスト膜に、フォトリソグラフィ ー法によって少なくとも１つの凸弧面（凹弧面）４２を 形成し、該表面及びフォトレジスト膜を連続的または段 階的にエッチングして、フォトレジスト膜の凸弧面（凹 弧面）に類似した少なくとも１つの凸弧面（凹弧面）を 該表面に形成する。光学材料を鏡面研磨した場合は研磨 にフォトレジスト膜を形成し、研磨面及びフォトレジス ト膜を均一にエッチングする。 (57) [Abstract] [Purpose] At least one convex arc surface on the surface of an optical material, The concave arc surface is integrally formed. A photoresist film formed on the surface of an optical device made of an optical material 40 is provided with at least one convex arc surface (concave arc surface) 42 by a photolithography method, and the surface and the photoresist film are continuously formed. Etching is performed stepwise or stepwise to form at least one convex arc surface (concave arc surface) similar to the convex arc surface (concave arc surface) of the photoresist film. When the optical material is mirror-polished, a photoresist film is formed for polishing, and the polished surface and the photoresist film are uniformly etched.

Inventors

• 👤 Akira Eda
• 👤 昭 江田

Bibliographic Details