How to create a mask pattern

Abstract

Abstract Translated from Japanese (57)【要約】 【課題】 レジストが倒れたり剥がれるなどのことがな いマスクパターンの作成方法を提供する。 【解決手段】 基板上のダミーパターンを形成しない領 域を論理変数の「１」として表した第５パターンと、基 板に対応する領域全面に矩形状のダミーパターンを論理 変数の「１」として表したパターン領域を規則的に配列 し、ダミーパターン以外の領域を論理変数の「０」として 表した第７パターン１５との論理積をとって得られた第 ８パターン１６に対し、それぞれのダミーパターンの各 辺から中心に向かう方向に閾値サイズの１／２である３ μｍの幅の領域を減算し、マイナスになって図形として 表せなくなるダミーパターンを消去する処理を行った後 拡大することにより、閾値サイズ以上のサイズのダミー パターンだけを選択的に残したダミーパターン１８を得 る。 (57) [Summary] [PROBLEMS] To provide a method of creating a mask pattern without resist falling or peeling. SOLUTION: A fifth pattern in which an area on a substrate where a dummy pattern is not formed is represented as a logical variable "1", and a rectangular dummy pattern over the entire area corresponding to the substrate is represented as a logical variable "1". Pattern regions are regularly arranged, and an eighth pattern 16 obtained by performing an AND operation with a seventh pattern 15 in which an area other than the dummy pattern is represented as a logical variable “0” is obtained. 3 which is 1/2 of the threshold size in the direction from each side toward the center A region having a width of μm is subtracted, and a dummy pattern which has a size equal to or larger than the threshold size is selectively left by performing a process of erasing a dummy pattern which becomes negative and cannot be represented as a figure. Get.

Inventors

• 👤 Kenji Sawamura
• 👤 健司 澤村

Bibliographic Details