Radiation sensitive mixture and process for the production of relief structures

Abstract

Abstract Translated from German Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, im wesentlichen bestehend aus (a) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen Bindemittel oder Bindemittelgemisch, (b) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung und (c) mindestens einer in Gegenwart von Säure zur Kondensation befähigten organischen Verbindung, wobei jede der Komponenten (a), (b) und (c) mindestens eine phenolische Hydroxylgruppe enthält. The invention relates to a radiation-sensitive mixture, consisting essentially of (a) a binder or binder mixture which is insoluble in water and soluble in aqueous alkaline solutions, (b) a compound which forms a strong acid when irradiated and (c) at least one organic compound capable of condensation in the presence of acid, wherein each of components (a), (b) and (c) contains at least one phenolic hydroxyl group. Das erfindungsgemäße strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen. The radiation-sensitive mixture according to the invention is suitable for producing relief structures.

Inventors

• 👤 Nguyen Kim Dr. Son

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