Light-sensitive composition, and process for the formation of relief patterns

Abstract

Abstract Translated from German Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, im wesentlichen bestehend aus (a) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen Bindemittel oder Bindemittelgemisch und (b) einer bei Bestrahlung eine starke Säure bildenden Verbindung, wobei Komponente (a) mindestens eine Gruppierung enthält.The invention relates to a radiation-sensitive mixture, consisting essentially of (a) a water-insoluble binder or binder mixture soluble in aqueous alkaline solutions and (b) a compound which forms a strong acid when irradiated, where component (a) has at least one grouping contains. Das erfindungsgemäße strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefstrukturen. The radiation-sensitive mixture according to the invention is suitable for producing relief structures.

Inventors

• 👤 Son Dr. Nguyen Kim

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