Method of manufacturing a diffraction grating formed or a planar optical wave-guide

Abstract

Abstract Translated from German 2.1. Es soll ein verbessertes Verfahren zur Herstellung eines an einem optischen Schichtwellenleiter ausgebildeten Beugungs­gitters angegeben werden, das insbesondere bei Verwendung in einem Wellenlängendemultiplexer nach dem Beugungsgitterprinzip mit Schichtwellenleiter eine gute Nebensprechdämpfung bei einer Einfügedämpfung von weniger als 10 dB ermöglicht. 2.2. Das Gitter wird dazu unter Verwendung eines photolitho­graphischen Verfahrens durch reaktives Ionenätzen hergestellt. 2.3. Herstellung von Wellenlängenmultiplexern oder/und -demultiplexern nach dem Beugungsgitterprinzip mit Schicht­wellenleiter. 2.1. An improved method for producing a diffraction grating formed on an optical layer waveguide is to be specified which, particularly when used in a wavelength demultiplexer based on the diffraction grating principle with layer waveguide, enables good crosstalk attenuation with insertion loss of less than 10 dB. 2.2. For this purpose, the grating is produced using a photolithographic method by reactive ion etching. 2.3. Production of wavelength division multiplexers and / or demultiplexers according to the diffraction grating principle with layered waveguide.

Inventors

• 👤 Cornelius Dr. Cremer
• 👤 Achim Dipl.-Phys. Reichelt

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