Photoresist film with a soluble intermediate layer

Abstract

Abstract Translated from German Die Erfindung betrifft Photoresistfilme mit löslicher Zwischenschicht. The invention relates to photoresist films with a soluble intermediate layer. Diese bestehen im wesentlichen aus (i) einer Trägerfolie, (ii) einer darauf aufgebrachten Zwischenschicht und (iii) einer auf der Zwischenschicht aufgebrachten photoempfindlichen Schicht und gegebenenfalls (iv) einer Deckfolie wobei die Zwischenschicht (ii) aus einem modifizierten Vinylalkoholpolymer besteht.These essentially consist of (i) a carrier film, (ii) an intermediate layer thereon and (iii) a photosensitive layer applied to the intermediate layer and if necessary (iv) a cover sheet wherein the intermediate layer (ii) consists of a modified vinyl alcohol polymer. Die erfindungsgemäßen Photoresistfilme eignen sich insbesondere für die Herstellung gedruckter Schaltungen. The photoresist films according to the invention are particularly suitable for the production of printed circuits.

Inventors

• 👤 Friedrich Dr. Seitz
• 👤 Wolfgang Huemmer
• 👤 Manfred Zuerger

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