Electron beam-measuring apparatus

Abstract

Abstract Translated from German Konventionelle Strahlaustastsysteme sind in der Lage, Elektro­nenimpulse mit einer minimalen Breite von etwa 100 bis 200 ps zu erzeugen. Eine Verringerung der Impulsbreite auf einige 10 Pikosekunden ist zwar prinzipiell möglich, würde aber aufgrund der damit einhergehenden Verringerung des Sondenstromes zu einer erheblichen Verlängerung der Meßzeiten führen. Es wird deshalb vorgeschlagen, eine von einem gepulsten Laserstrahl (LA) beauf­schlagte Photokathode (PK) zusätzlich an die Säule eines Elek­tronenstrahlmeßgerätes anzuflanschen und die Photoelektronenquel­le mit Hilfe einer fokussierenden Ablenkeinheit (SFM) stigma­tisch auf die Strahlachse (OA1) abzubilden. Als fokussierende Ablenkeinheit (SFM) kommt insbesondere ein Sektorfeldmagnet in Betracht. Conventional beam blanking systems are capable of generating electron pulses with a minimum width of approximately 100 to 200 ps. A reduction in the pulse width to a few 10 picoseconds is possible in principle, but would lead to a considerable increase in measuring times due to the associated reduction in the probe current. It is therefore proposed to additionally flange-mount a photocathode (PK) exposed to a pulsed laser beam (LA) to the column of an electron beam measuring device and to stigmatically image the photoelectron source with the aid of a focusing deflection unit (SFM) on the beam axis (OA1). A sector field magnet is particularly suitable as a focusing deflection unit (SFM).

Inventors

• 👤 Erich Dr. Rer. Nat. Plies
• 👤 Johann Dipl.-Ing. Otto (Fh)

Bibliographic Details