Light-sensitive negative or positive composition, and process for the formation of relief patterns

Abstract

Abstract Translated from German Die Erfindung betrifft positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Gemische sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern. The invention relates to positive and negative working radiation-sensitive mixtures and methods for producing relief patterns. Diese strahlungsempfindlichen Gemische enthalten ein polymeres Bindemittel und eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung enthält, sowie eine zusätzliche Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine starke Säure bildet, wobei als polymere Bindemittel Umsetzungsprodukte aus phenolische Hydroxylgruppen enthaltenden Polymeren mit Dihydropyran oder Alkylvinylethern eingesetzt werden. These radiation-sensitive mixtures contain a polymeric binder and an organic compound, the solubility of which is increased in an aqueous alkaline developer by the action of acid and which contains at least one group which can be split by acid, and an additional grouping which forms a strong acid when exposed to radiation , the polymeric binder used being reaction products of polymers containing phenolic hydroxyl groups with dihydropyran or alkyl vinyl ethers. Diese strahlungsempfindlichen Gemische eignen sich insbesondere zur Herstellung von Reliefmustern. These radiation-sensitive mixtures are particularly suitable for producing relief patterns.

Inventors

• 👤 Reinhold Dr. Schwalm
• 👤 Horst Binder

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