Device for determining the mass flow of a flowing medium

Abstract

Abstract Translated from German Es wird eine Vorrichtung zur Bestimmung der Masse eines strömenden Mediums mit einem Substrat (20) als Träger und einer auf dem Aub­strat (20) angeordneten Widerstandsanordnung vorgeschlagen, welche unter anderem einen schichtförmigen Meßwiderstand (R H ) umfaßt so­wie einen ebenfalls schichtförmigen Heizwiderstand (R S ), dessen Heizleistung so geregelt wird, daß der Meßwiderstand (R H ) eine konstante Temperatur aufweist, wobei die Heizleistung des Heizwider­standes (R S ) ein Maß für die Masse des strömenden Mediums ist. Die Fläche von (R S ) ist größer als die Fläche von (R H ) und erstreckt sich weiter in Richtung auf eine Befestigung des Substrates (20) hin, um einen Wärmeabfluß aus dem Bereich des Meßwiderstandes (R H ) zu verhindern. Meßwiderstand (R H ) und Heizwiderstand (R S ) befin­den sich auf dem stromabwärts gelegenen Teil des Substrates (20) auf einer durch einen Schlitz abgetrennten Lippe (33). Durch diese An­ordnung des Meßwiderstandes (R H ) haben Verschmutzungen des Sub­strates (20) nur einen geringen Einfluß auf das Meßergebnis. A device for determining the mass of a flowing medium with a substrate (20) as a support and a resistor arrangement arranged on the substrate (20) is proposed, which comprises, among other things, a layered measuring resistor (R H ) and a likewise layered heating resistor (R S ), whose heating power is controlled so that the measuring resistor (R H ) has a constant temperature, the heating power of the heating resistor (R S ) being a measure of the mass of the flowing medium. The area of (R S ) is larger than the area of (R H ) and extends further in the direction of an attachment of the substrate (20) in order to prevent heat flow from the area of the measuring resistor (R H ). Measuring resistor (R H ) and heating resistor (R S ) are located on the downstream part of the substrate (20) on a lip (33) separated by a slot. Due to this arrangement of the measuring resistor (R H ), contamination of the substrate (20) has only a minor influence on the measurement result.

Inventors

• 👤 Hans Dipl.-Phys. Hecht
• 👤 Wolfgang Dipl.-Ing. Kienzle
• 👤 Josef Dipl.-Ing. Kleinhans
• 👤 Ulrich Dr. Dipl.-Phys. Kuhn
• 👤 Berthold Dr.-Ing. Wocher

Bibliographic Details