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EP0254205A2 Expired / Lapsed EP ⏱️ 0.0 years remaining

Process for preparing transparent protective silicon coatings

Assignee: Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
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Filing: 1987-07-16
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Granted: —
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Expires: 2007-07-16
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Abstract

Abstract Translated from German Verfahren zum Herstellen transparenter Schutzschichten, insbesondere auf optischen Kunststoff-Substraten. Durch chemische Dampfabscheidung unter Plasmaeinwirkung (Plasma-CVD) auf eine polymerisierbare monomere organische Verbindung aus der Gruppe der Siloxane und Silazane wird Schichtmaterial abgeschieden, wobei dem Polymerisationsvorgang Sauerstoff im Über­schuß zugeführt wird. Zur Lösung der Aufgabe, Haft­festigkeit und Schichthärte ohne aufwendige Verfahrens­führung weiter zu verbessern, werden folgende Ver­fahrensschritte vorgeschlagen: a) das Plasma wird mittels Hochfrequenz zwischen zwei Elektroden erzeugt, von denen die eine eine Katoden­funktion ausübt, b) die Substrate werden auf der Elektrode mit Katoden­funktion angeordnet, und die zugeführte elektrische Leistung wird so hoch eingestellt, daß die Bias­spannung an den Substraten mindestens -80 Volt be­trägt, und c) der Partialdruck des Sauerstoffs wird mindestens fünf Mal so hoch gewählt, wie der Partialdruck der organischen Verbindung aus der Gruppe der Siloxane und Silazane. Process for producing transparent protective layers, in particular on optical plastic substrates. Layer material is deposited by chemical vapor deposition under the action of plasma (plasma CVD) on a polymerizable monomeric organic compound from the group of the siloxanes and silazanes, excess oxygen being fed to the polymerization process. The following process steps are proposed to solve the problem of further improving the adhesive strength and layer hardness without complex process management: a) the plasma is generated by means of high frequency between two electrodes, one of which has a cathode function, b) the substrates are arranged on the electrode with the cathode function, and the electrical power supplied is set so high that the bias voltage on the substrates is at least -80 volts, and c) the partial pressure of oxygen is chosen to be at least five times as high as the partial pressure of the organic compound from the group of siloxanes and silazanes.

Inventors

  • 👤 Dr. Knut Enke
  • 👤 Walter Zültzke

Bibliographic Details

Application Number —
Jurisdiction EP
Data Source google_patents
Last Synchronized 2026-11-05 22:14
CPC Classifications
C; C08; C08J; C08J7/00; C08J7/12; C08J7/123; B; B05; B05D; B05D1/00; B05D1/62; B29; B29D; B29D11/00; B29D11/00865; C09; C09D; C09D4/00; G02B1/105; G; G02; G02B; G02B1/00; G02B1/10; G02B1/14

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