Device for precise relative adjustment of a mask and a semiconductor wafer in a lithography apparatus and method for its use

Abstract

Abstract Translated from German Anordnung zur genauen gegenseitigen Ausrichtung einer Maske (2) und einer Halbleiterscheibe (1) in einem Lithographiegerät, bei der die Maske (2) mittels erster, senkrecht zur Maskenebene angeordneter Stellstifte (29 bis 31) in einem Halterungsteil (19a) gelagert ist und mittels zweiter, parallel zur Maskenebene angeordneter Stellstifte (40 bis 42) zu Ausrichtbewegungen veranlaßt wird. Dabei sind die ersten Stellstifte (29 bis 31) im Halterungsteil (19a) in Längsrichtung verschiebbar gelagert und mit steuerbaren Antriebsvorrichtungen (32) gekoppelt, um die Maske (2) senkrecht zu einem belichtenden Korpuskularstrahl (5) auszurichten. Zusätzlich kann auch eine entsprechende Ausrichtung der Halbleiterscheibe (1) vorgesehen sein. Arrangement for the exact mutual alignment of a mask (2) and a semiconductor wafer (1) in a lithography device, in which the mask (2) is mounted in a holder part (19a) by means of first adjusting pins (29 to 31) arranged perpendicular to the mask plane and by means of second adjustment pins (40 to 42) arranged parallel to the mask plane are caused to align. The first adjusting pins (29 to 31) are mounted in the holding part (19a) so as to be displaceable in the longitudinal direction and are coupled to controllable drive devices (32) in order to align the mask (2) perpendicular to an exposing corpuscular beam (5). A corresponding alignment of the semiconductor wafer (1) can also be provided.

Inventors

• 👤 Karl-Heinz Dr. Müller

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