Electron beam device for projecting an image of an object onto a sample

Abstract

Abstract Translated from French Le dispositif selon l'invention comprend deux étages de réduction à lentilles électromagnétiques (L2, L3). Selon l'invention, il est prévu un tube isolant unique disposé entre un objet (S) et le plan échantillon (P), ce tube possédant une face intérieure métallisée. Application à la microlithographie à faisceau électronique. The device according to the invention comprises two reduction stages with electromagnetic lenses (L2, L3). According to the invention, there is provided a single insulating tube disposed between an object (S) and the sample plane (P), this tube having a metallized inner face. Application to electron beam microlithography.

Inventors

• 👤 Emmanuel Chambost

Bibliographic Details