X-ray resists production process

Abstract

Abstract Translated from German Verfahren zur Herstellung von Röntgenresists mit Atzmustern unter Verwendung von an sich bekannten Trägern, die mit einem Film aus Copolymeren des Methacrylnitrils mit der Methacrylsäure beschichtet sind, wobei a) zur Beschichtung des Trägers ein Copolymerisat des Methacrylnitrils und der Methacrylsäure mit einem Molekulargewicht unter 700 000 verwendet wird, b) eine thermische Behandlung vor der Bestrahlung mit Röntgenstrahlung unterhalb 150 °C bis zur Bildung eines lösungsmittelfreien, unvernetzten Films durchgeführt wird, c) nach der Bestrahlung mit Röntgenstrahlung bei Temperaturen im Bereich 140° - 170°C während 15 bis 30 Minuten getempert wird und d) anschließend mit einem Lösungsmittelsystem L gebildet aus Wasser und/oder einem organischen Lösungsmittel, das Sauerstoff in Form einer Hydroxy- und/oder einer Ethergruppe und/oder einer Estergruppe enthält, entwickelt wird. Process for the production of X-ray resists with etching patterns using supports known per se which are coated with a film of copolymers of methacrylonitrile with the methacrylic acid, wherein a) a copolymer of methacrylonitrile and methacrylic acid with a molecular weight of less than 700,000 is used to coat the support, b) a thermal treatment is carried out before irradiation with X-rays below 150 ° C. until a solvent-free, uncrosslinked film is formed, c) after the irradiation with X-rays at temperatures in the range 140 ° - 170 ° C for 15 to 30 minutes and d) subsequently developed with a solvent system L formed from water and / or an organic solvent which contains oxygen in the form of a hydroxyl and / or an ether group and / or an ester group.

Inventors

• 👤 Frithjof Dr. Asmussen
• 👤 Wolfgang Dr. Gänzler
• 👤 Winfried Dr. Wunderlich

Bibliographic Details