Process for the development and stripping of photoresist layers with quaternary ammonium compounds

Abstract

Abstract Translated from German Es wird eine Lösung und ein Verfahren zur Behandlung, It becomes a solution and a method of treatment insbesondere zum Entwicklen oder Entschichten, von Photoresistschichten beschrieben, die a) eine Verbindung der Formel 1 worin R, R 1 und R 2 gleiche oder verschiedene Alkylgruppen mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen sind und n eine Zahl von 1 bis 10 ist, und b) Wasser oder ein mit Wasser mischbares organisches Lösemittel oder ein Gemisch von beidem enthält. especially for developing or stripping, described by photoresist layers that a) a compound of formula 1 wherein R, R 1 and R 2 are identical or different alkyl groups with 1 to 5 carbon atoms and n is a number from 1 to 10, and b) contains water or a water-miscible organic solvent or a mixture of both. Das Verfahren wird vorzugsweise für positiv arbeitende Photoresistschichten angewendet und hat den Vorteil, daß es bei gleicher Wirksamkeit weniger Ammoniumbase als bekannte Verfahren erfordert. The method is preferably used for positive-working photoresist layers and has the advantage that it requires less ammonium base than known methods with the same effectiveness.

Inventors

• 👤 Kunio Itoh
• 👤 Kimio Watabe
• 👤 Masahiro Shiozaki

Bibliographic Details