Process for the preparation of a protection layer or a relief pattern

Abstract

Abstract Translated from German Verfahren zur Herstellung einer Schutzschicht oder einer Rellefabbildung auf einem Substrat, bei dem eine strahkungsempfindliche Schicht aus einem festen, filmbildenden Epoxidharz, das einen strahlungsaktivierbaren Photoinitiator für die Polyaddition enthält, von einem Trägermaterial auf ein Substrat übertragen, darauf direkt oder unter einer Photomaske belichtet und thermisch gehärtet wird, und worauf gegebenenfalls die unbelichteten Anteile mit einem Lösungsmittel entwickelt werden. Das Verfahren eignet sich z.B. zur Herstellung von gedruckten Schaltungen, Lötstoppmasken und Offsetdruckplatten. Process for the production of a protective layer or a rellef image on a substrate, in which a radiation-sensitive layer made of a solid, film-forming epoxy resin, which contains a radiation-activatable photoinitiator for polyaddition, is transferred from a carrier material to a substrate, exposed thereon directly or under a photomask, and thermally is cured, and where appropriate the unexposed portions are developed with a solvent. The method is suitable e.g. for the production of printed circuits, solder mask and offset printing plates.

Inventors

• 👤 Hans Dr. Zweifel
• 👤 Sigrid Dr. Bauer
• 👤 Kurt Dr. Meier

Bibliographic Details