Method of forming electrically conductive layers

Abstract

Abstract Translated from German Bei einem Verfahren zur Erzeugung elektrisch leitender Schichten auf bzw. in einer Isolatorschicht (6) wird die Leitfähigkeit von mindestens einem Teil der Isolatorschicht durch Ionenimplantation erhöht. Die Erfindung kann zur Erhöhung der Durchbruchsspannung bei Hochspannungsdioden und -transistoren verwendet werden sowie zur Herstellung von hochohmigen Widerständen auf Halbleiteroberflächen. In a method for producing electrically conductive layers on or in an insulator layer (6), the conductivity of at least part of the insulator layer is increased by ion implantation. The invention can be used to increase the breakdown voltage in high-voltage diodes and transistors and to produce high-resistance resistors on semiconductor surfaces.

Inventors

• 👤 Joachim Dipl.-Phys. Dathe
• 👤 Walter Holtschmidt

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