Device for implanting strong-current ions, comprising electrostatic deflection plates and magnetic refocussing means

Abstract

Abstract Translated from French Implanteur d'ions à fort courant utilisable notamment dans la fabrication des semiconducteurs, comprenant des moyens de balayage électrostatique (22, 24) et un moyen magnétique de refocalisation (10, 12) qui est de préférence surfocalisant pour compenser l'effet de charge d'espace et procédé de réglage des dimensions du faisceau d'ions par réglage dudit moyen de focalisation (10, 12). High current ion implanter usable in particular in the manufacture of semiconductors, comprising electrostatic scanning means (22, 24) and a magnetic refocusing means (10, 12) which is preferably superfocalizing to compensate for the charge effect d space and method for adjusting the dimensions of the ion beam by adjusting said focusing means (10, 12).

Inventors

• 👤 Jean Camplan
• 👤 Jacques Chaumont
• 👤 Robert Meunier

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