Optical distance measuring apparatus

Abstract

Abstract Translated from German In einer Einrichtung zur optischen Messung des lateralen Abstandes zweier in verschiedenen Ebenen liegenden Linien, z. B. Kanten (11, 15; Fig. 1) wird das Beugungsmuster ausgewertet, das von der ersten Kante (15) und dem in deren Ebene erzeugten Bild (21) der zweiten Kante (11) hervorgerufen wird. Aus der Lage der Minima im Beugungsspektrum, die beispielsweise mit einer zeilenförmigen Anordnung von Photodioden (29) bestimmt werden kann, wird in einem Rechner (32) der Kantenabstand ermittelt. Die Anordnung dient zum gegenseitigen Ausrichten zweier Gegenstände, beispielsweise einer Maske (59) und einer Halbleiterscheibe (69), auf denen spezielle Richtmarken (57, 57') bzw. (67, 67') angeordnet sind. In a device for optical measurement of the lateral distance between two lines lying in different planes, e.g. B. edges (11, 15; Fig. 1), the diffraction pattern is evaluated, which is caused by the first edge (15) and the image (21) of the second edge (11) generated in its plane. The edge spacing is determined in a computer (32) from the position of the minima in the diffraction spectrum, which can be determined, for example, with a line-shaped arrangement of photodiodes (29). The arrangement serves for the mutual alignment of two objects, for example a mask (59) and a semiconductor wafer (69), on which special alignment marks (57, 57 ') and (67, 67') are arranged.

Inventors

• 👤 Ronald Stephen Charsky
• 👤 Alexander Leon Flamholz

Bibliographic Details