DEVICE FOR CARRYING OVER THERMAL WORK PROCESSES, ESPECIALLY IN THE SEMICONDUCTOR INDUSTRY

Abstract

Abstract Translated from German Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Durchführung vorwiegend thermischer Arbeitsprozesse, insbesondere der Scheibenprozesse in der Halbleiterindustrie und der Vergütungsverfahren in der Optik mit hohen Forderungen an - die Reinheit der Atmosphäre in der Vorrichtung, - die räumliche Temperaturkonstanz - die Länge der temperaturkonstanten Zone - die Möglichkeit der Realisierung zeitlicher und räumlicher Temperaturgradienten und - die Chargenstückzahl. The invention relates to a device for carrying out mainly thermal work processes, in particular the wafer processes in the semiconductor industry and the refining process in optics with high demands on - the purity of the atmosphere in the device, - the spatial temperature stability - the length of the temperature-constant zone - the possibility of Realization of temporal and spatial temperature gradients and - the batch quantity.

Inventors

• 👤 Rolf Koenig

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